基本信息：等离子体增强型原子层沉积系统（ALD）

型号：MNT-P-100-43

生产厂商：无锡迈纳德微纳技术有限公司

主要技术参数：

衬底规格 RT-400 ℃，控制精度±0.5 ℃@单腔

主要应用：

原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是一种自限制的、表面控制的化学气相沉积法。ALD制备的薄膜具有均匀性、保形性优异、无缺陷以及针孔，尤其适合一些超高深宽比沟槽以及复杂结构的三维材料的薄膜沉积。